Hardware ハードウェア製品

ハードウエア製品

LSシリーズは、高密度プラズマを発生させることができ、なおかつ低ダメージプロセスが可能であるプラズマソースです。

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特長

1.自社技術によるPLL高速マッチングにより、マルチステッププロセス対応
2.高ラジカル密度による高プロセスレートを実現
3.フローティング電位のICPによる低ダメージプロセスを実現
4.RF電源部とプラズマ発生部が一体化されているためコンパクト

アプリケーション

・O2アッシング
・H2アッシング
・CVDチャンバークリーニング
・表面処理(Siの窒化または酸化)
・ラジカルプロセス

製品ラインナップ

LS3000/LS4000

製品スペック

 

  LS3000 LS4000
入力電圧 AC200V (180~220V) 単相 50/60Hz
出力電力 3000W 4000W
RF周波数 1.8~2.2MHz ※1
使用可能ガス CXFY , CXHYFZ , SF6 , NF3 , H2 , O2 , N2 , H2O , NH3 , Ar , He
チャンバ内圧力 67~266Pa (0.5~2.0Torr) ※2
水冷流量 2.0 ℓ/min < 3.0ℓ/min <
寸法 375×305×245mm 400×412×254mm

 

※1…周波数は適切な負荷マッチングを取るために自動調整されます。  
※2…御希望により、運転圧力範囲の調整が可能です。詳細はお問い合わせください。

 

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