Hardware ハードウェア製品

ハードウエア製品

GPi製イオンソースPPALSは、独自の磁場設計技術により、高いエッチングレートを実現したイオンソースです。

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特長

1.アノード・レイヤー方式のイオン・ソース
 ・多様の有効ビーム長に対応(305~2030mm)
 ・1つのアノード用DC電源で動作
 ・スパッタリングと同等の圧力領域で使用可能
2.高精度の磁場と電極設計により高い直進性のイオンビームを放出
3.生産性とメンテナンス性を考慮した構造
 ・長時間運転が可能

アプリケーション

・酸素イオンによる表面有機物の除去
・アルゴン・イオンによる表面酸化物の除去
・イオン照射の表面改質による次工程成膜の密着性改善
・イオン照射の表面改質による親水性改善

製品ラインナップ

300~2030mm(スペック表参照)
※チャンバー幅や成膜範囲に合わせて、自由にカスタムすることも可能です。

製品スペック

  PPALS30 PPALS36 PPALS56 PPALS81 PPALS112 PPALS142 PPALS203
寸法 H×W(mm) 80×127
寸法 L(mm) 432 487 687 937 1247 1547 2157
処理有効幅(mm) 305 360 560 810 1120 1420 2030
イオンエネルギー 1500~2500eV
動作圧力 <1mTorr
使用ガス Ar 或いはO2
放電電圧 600~4000VDC
最大冷却水圧 5.17Bar (0.52MPa)

 

DC電源ユニット仕様

最大出力電力 3kW 5kW 10kW
入力電圧 198~264V RMS、単相、50/60Hz 187~242V RMS、三相、50/60Hz
最大出力電圧 4000V
冷却方式 空冷
寸法 177×483×508(mm) 266×483×610(mm) 222×483×610(mm)

 

※長さにつきましてはチャンバーに合わせて自由にカスタムすることができます。
   御問い合わせください。

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