新着情報

お客様各位

拝啓

貴社益々ご清栄の事とお慶び申し上げます。
平素は格別のご高配を賜り、誠に有難うございます。
おかげ様で弊社は創業30年を迎え、今年も12月4日(水)~6日(金)幕張メッセにて開催されます「SEMICON Japan 2013」に出展させて頂きます。

今回の新製品コーナーですが、自社オリジナル製品からは、環境対策に効果を発揮し、更なる進化を遂げたPFCプラズマ除害装置の展示を致します。
ウェハーサイズの拡大に伴う、プロセスに使用する水量の増加をおさえ、資源の消費を減らす効果があります。

また、Advanced Energy社製プラズマ電源からは、フィルム上への透明電導膜や光学膜のスパッタ用に開発された、新型AC電源の展示及び紹介を行います。
合わせて、お客様方から25年以上の長きに亘りご愛顧を頂いております、AE社製DC、パルスDC、AC、RF電源など信頼性の高い製品の紹介と、同時に新たなるプラズマ応用技術についての提案をさせて頂きます。

ロールコーター分野では、最近脚光を浴びている円筒形ターゲット方式の米国General Plasma Inc.社製ロータリーカソードや、フィルムの密着性改善に効果のあるリニアイオンソースの実機展示と紹介を致します。

ご多忙の事とは存じますが、是非幕張メッセへお越し下さいますようお願い申し上げます。
私共ランドマーク社のブースNo. 4D-901までお立ち寄り下さい。
皆様にお会いできることを楽しみにしてお待ち申し上げております。

敬具

2013年11月吉日

株式会社ランドマークテクノロジー